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　　目前，真空行業運用的大多數干式真空泵都是用油、水或其它聚合物等流體充任泵的工作介質，在泵內起冷卻、密封、光滑等多種作用。隨著科學技術的開展以及真空應用范疇的擴展，原有的干式真空泵及其組成的抽氣系統呈現了兩個急需處理問題：一是泵的工作介質返流污染被抽容器，而這種返流在許多狀況下影響產品的質量、數量，增加設備的維護本錢。其次，由于某些工藝過程中的反響物質使真空泵內的介質嚴重蛻變，使泵不能正常工作。

　　關于普通的無油真空系統來說，固然可用油封式真空泵加上冷阱或吸附阱之類附件來避免返流，但不能徹底處理問題，而且使系統顯得復雜。而運用恰當型式的干式真空泵，則能夠到達理想的運用效果。

　　干式真空泵的應用是普遍的，主要有以下幾個方面：

　　1)低壓化學氣相堆積中的多晶硅制備工藝中；

　　2)半導體刻蝕工藝。在這些消費工藝中常常用到或生成腐蝕性氣體和研磨微粒；

　　3)除半導體工藝外的某些產生微粒的工藝，不希望微粒混入泵油中，而希望微粒排出泵外，則用一定型式的干式機械真空泵能夠滿足請求；

　　4)用做普通無油清潔真空系統的前級泵，以避免油污染；

　　5)在化學工業、醫藥工業、食　品工業中的蒸餾、枯燥、脫泡、包裝等，要避免有機溶劑形成污染，合適用干式真空泵。